KINDAI UNIVERSITY


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牟田 浩司ムタ ヒロシ

プロフィール

所属部署名産業理工学部 電気電子工学科 / 産業理工学・産業技術研究科
職名教授
学位博士(工学)
専門プラズマプロセス
ジャンル環境/エネルギー
コメンテータガイドhttp://www.kindai.ac.jp/meikan/1370-muta-hiroshi.html
ホームページURL
メールアドレスmuta[at]fuk.kindai.ac.jp
Last Updated :2017/11/18

コミュニケーション情報 byコメンテータガイド

コメント

    地球環境にやさしい電磁エネルギー利用をテーマに、高周波プラズマ・ビームの大面積高効率生成および機能性薄膜作成、太陽光発電,ワイヤレス給電・送電などを研究しています。

学歴・経歴

経歴

  •   2015年04月,  - 現在, 近畿大学産業理工学部(教授)

研究活動情報

研究分野

  • 応用物理学, プラズマエレクトロニクス

研究キーワード

  • プラズマCVD, 薄膜シリコン太陽電池, 電磁波, ECRプラズマ, 電磁界シミュレーション

論文

  • Effect of Gas Flow Rate on the High-Rate. Localized Jet-Deposition of Silicon in SiH4/H2 PE-CVD, S. Nishida, H. Muta, S. Kuribayashi, Journal of Chemical Engineering of Japan, 47, 478, 482,   2014年, 査読有り
  • Estimation of Negative Ions in VHF SiH4/H2 Plasma, T. Yamane, S. Nakano, S. Nakao, Y. Takeuchi, R. Ichiki, H. Muta, K. Uchino, Y. Kawai, Japanese Journal of Applied Physics, 53, 116101-1, 116101-4,   2014年, 査読有り
  • Effect of VHF Excitation Frequency on Localized Deposition of Silicon in Non Equilibrium-plasma-enhanced CVD by an Under Expanded Supersonic Jet, S. Kuribayashi, Y. Tsunekawa, S. Akahori, D. Ando, J. Nakamura, S. Nishida, H. Muta, Y. Takeuchi, Y. Yamauchi, H. Takatsuka , Surface & Coatings Technology, 225, 75, 78,   2013年, 査読有り
  • VHF SiH4/H2 Plasma Characteristics With Negative Ions, T. Yamane, S. Nakao, Y. Takeuchi, Y. Yamauchi, H. Takatsuka, H. Muta, K. Uchino, Y. Kawai, Surface & Coatings Technology, 228, S433, S436,   2013年, 査読有り
  • Measurements of SiH4/H2 VHF Plasma Parameters with Heated Langmuir Probe, T. Yamane, S. Nakao, Y. Takeuchi, H. Muta, R. Ichiki, K. Uchino, Y. Kawai, Contributions to Plasma Physics, 53, 588, 591,   2013年, 査読有り

MISC

  • Generation of a Low-electron-temperature ECR Plasma Using Mirror Magnetic Fielde, Surface and Coatings Technology, Vol. 174-175, pp. 152-156,   2003年
  • Development of a Hybrid PIG-ECR Ion Sources, Surface and Coatings Technology, Vol. 274-175, pp.142-146,   2003年
  • Numerical Investigation of a Low-electron-temperature ECR Plasma in Ar/N2 Mixtures, Surface and Coatings Technology, Vol.171, pp.157-161,   2003年
  • Numerical Investigation of the Production Mechanism of a Low-temperature Electron Cyclotron Resonance Plasma. , Vacuum, Vol.66,pp.209-214,   2002年
  • Investigation of the Microwave Propagation in an ECR Plasma Using a Self-consistent Particle-wave Model , Surface and Coatings Technology, Vol.131,pp.44-49,   2000年
  • Investigation of Electron Behavior in ECR Plasmas Using a Self-Consistent Particle-Wave Model , Japanese Journal of Applied Physics, Vol.38,pp.4455-4459,   1999年
  • Effect of Electromagnetic Waves Propagating in the Periphery of Electron Cyclotron Resonance Plasma on the Uniformity , Japanese Journal of Applied Physics, Vol.38,pp.4333-4337,   1999年
  • Role of Peripheral Vacuum Regions in the Control of the Electron Cyclotron Resonance Plasma Uniformity , Applied Physics Letters, Vol.74,pp.14-17,   1999年
  • Three-Dimensional Simulation of Microwave Propagation in an Electron Cyclotron Resonance Plasma , Japanese Journal of Applied Physics, Vol.36,pp.4773-4776,   1997年
  • Spatial Distribution of Electron Temperature and Density in Electron Cyclotron Resonance Discharges , Journal of Applied Physics, Vol.81,pp.2105-2113,   1997年
  • One-Dimensional Simulation of Microwave Propagation in Electron Cyclotron Resonance Plasmas , Japanese Journal of Applied Physics, Vol.36,pp.872-876,   1997年

受賞

  •   1986年, 電気関係学会九州支部連合大会発表賞

競争的資金

  • ECRプラズマの空間分布制御