KINDAI UNIVERSITY


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岡 伸人オカ ノブト

プロフィール

所属部署名産業理工学部 生物環境化学科 / 産業理工学・産業技術研究科
職名准教授
学位博士(工学)
専門環境材料科学
ジャンル科学・技術/化学
コメンテータガイドhttp://www.kindai.ac.jp/meikan/1492-oka-nobuto.html
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Last Updated :2017/11/18

コミュニケーション情報 byコメンテータガイド

コメント

    エネルギーや環境負荷の低減につながる機能性材料や合成プロセスの開発に取り組んでいます。対象は透明導電膜、透明アモルファス半導体、光触媒、太陽電池、リチウムイオン電池などです。

学歴・経歴

学歴

  •  - 2006年09月, 東京大学

経歴

  •   2013年04月,  - 2016年03月, 東北大学(准教授 (研究特任))
  •   2012年04月,  - 2013年03月, 事業構想大学院大学(准教授)
  •   2008年04月,  - 2012年03月, 青山学院大学理工学部化学・生命科学科(助教, 博士研究員)
  •   2006年10月,  - 2008年03月, 東京大学大学院新領域創成科学研究科人間環境学専攻(特任助教, 産学官連携研究員)

研究活動情報

研究分野

  • 機械工学, 熱工学
  • 情報学, 情報学基礎
  • 応用物理学・工学基礎, 薄膜・表面界面物性
  • 材料工学, 無機材料・物性
  • 複合化学, 機能物質化学
  • 情報学, メディア情報学・データベース

論文

  • Capacity improvement of the carbon-based electrochemical capacitor by zigzag-edge introduced graphene, N. Tamura, T. Tomai, N. Oka, I. Honma, Applied Surface Science, 428, 986, 989,   2018年01月, 査読有り
  • Fabrication of Cu2ZnSnS4 thin films using a Cu-Zn-Sn-O amorphous precursor and supercritical fluid sulfurization, Y. Nakayasu, T. Tomai, N. Oka, K. Shojiki, S. Kuboya, R. Katayama, L. Sang, M. Sumiya, I. Honma, Thin Solid Films, 638, 244, 250,   2017年09月, 査読有り
  • Water purification using porous ceramics prepared by recycling volcanic ash and waste glass, T. Ando, Y. Fujita, M. Kakinaga, N. Oka, T. Nishida, Applied Water Science, 7, 4109, 4115,   2017年05月, 査読有り
  • Highly conductive barium iron vanadate glass containing different metal oxides, T. Nishida, Y. Izutsu, M. Fujimura, K. Osouda, Y. Otsuka, S. Kubuki, N. Oka, Pure and Applied Chemistry, 89, 419, 428,   2017年03月, 査読有り
  • Visible-light active thin-film WO3 photocatalyst with controlled high-rate deposition by low-damage reactive-gas-flow sputtering, N. Oka, A. Murata, S. Nakamura, J. Jia, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, APL Materials, 3, 104407-1, 104407-6,   2015年, 査読有り
  • Controllable bandgap of Cu2ZnSn(S,Se)4 thin films via simultaneous supercritical fluid chalcogenization, Y. Nakayasu, T. Tomai, N. Oka, I. Honma, Appl. Phys. Express, 8, 021201-1, 021201-4,   2015年, 査読有り
  • Thermophysical Properties of SnO2-based Transparent Conductive Films: Effect of Dopant Species and Structures, Compared with In2O3-, ZnO-, TiO2-based Films, N. Oka, S. Yamada, T. Yagi, N. Taketoshi, J. Jia, Y. Shigesato, Journal of Materials Research, 29, 15, 1579, 1584,   2014年08月, 査読有り
  • Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc sputtering using Ti-Nb alloy target, precisely controlled the transition region using impedance feedback system, N. Oka, Y. Sanno, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato, Appl. Surf. Sci., 301, 551, 556,   2014年04月, 査読有り
  • Origin of carrier scattering in polycrystalline Al -doped ZnO films, J. Jia, N. Oka, M. Kusayanagi, S. Nakatomi, Y. Shigesato, Appl. Phys. Express, 7, 105802-1, 105802-4,   2014年, 査読有り
  • Al-doped ZnO films deposited on a slightly reduced buffer layer by reactive dc unbalanced magnetron sputtering, M. Kusayanagi, A. Uchida, N. Oka, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato, Thin Solid Films Films, 555, 93, 99,   2014年, 査読有り
  • Study on reactive sputtering to deposit transparent conductive amorphous In2O3-ZnO films using an In-Zn alloy target, N. Tsukamoto, S. Sensui, J. Jia, N. Oka, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 559, 49, 52,   2014年, 査読有り
  • Transparent conductive Al and Ga doped ZnO films deposited using off-axis sputtering, J. Jia, A. Yoshimura, Y. Kagoya, N. Oka, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 559, 69, 77,   2014年, 査読有り
  • Early stages of Sn-doped In2O3 film growth on amorphous SiO2 surfaces observed by atomic force microscopy and transmission electron microscopy, Y. Sato, N. Oka, S. Nakamura, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 52, 128007-1, 128007-3,   2013年, 査読有り
  • Reactive Gas-Flow-Sputter Deposition of Amorphous WO3 Films for Electrochromic devices, N. Oka, M. Watanabe, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 532, 1, 6,   2013年, 査読有り
  • Thermal Conductivity of Amorphous Indium–Gallium–Zinc Oxide Thin Films, T. Yoshikawa, T. Yagi, N. Oka, J. Jia, Y. Yamashita, K. Hattori, Y. Seino, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, Appl. Phys. Express, 6, 021101-1, 021101-3,   2013年, 査読有り
  • Thermal Boundary Resistance of W/Al2O3 Interface in W/Al2O3/W Three-layered Thin Film and Its Dependence on Morphology, S. Kawasaki, Y. Yamashita, N. Oka, T. Yagi, J. Jia, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 52, 6, 065802-1, 065802-5,   2013年, 査読有り
  • Direct observation of the band gap shrinkage in amorphous In2O3-ZnO thin films, J. Jia, N. Oka, Y. Shigesato, Journal of Applied Physics, 113, 163702-1, 163702-7,   2013年, 査読有り
  • Visible–light active photocatalytic WO3 films loaded with Pt nanoparticles deposited by sputtering, A. Murata, N. Oka, S. Nakamura, Y. Shigesato, J. Nanosci. Nanotechnol., 12, 6, 5082, 5086,   2012年06月, 査読有り
  • Annealing Effects on Ta Doped SnO2 Films, J. Jia, Y. Muto, N. Oka, Y. Shigesato, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 1454, 245, 251,   2012年, 査読有り
  • Experimental Observation on the Fermi level Shift in Polycrystalline Al-doped ZnO Films, J. Jia, A. Takasaki, N. Oka, Y. Shigesato, Journal of Applied Physics, 112, 013718-1, 013718-7,   2012年, 査読有り
  • Electronic State of Amorphous Indium Gallium Zinc Oxide Films Deposited by DC Magnetron Sputtering with Water Vapor Introduction, N. Oka, T. Aoi, R. Hayashi, H. Kumomi, Y. Shigesato, Applied Physics Express, 5, 075802-1, 075802-3,   2012年, 査読有り
  • Visible light-induced photocatalytic properties of WO3 films deposited by DC reactive magnetron sputtering, M. Imai, M. Kikuchi, N. Oka, Y. Shigesato, J. Vac. Sci. Technol. A, 30, 031503-1, 031503-5,   2012年, 査読有り
  • In-situ analyses on the reactive sputtering process to deposit Al doped ZnO films using an Al-Zn alloy target, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 520, 3751, 3754,   2012年, 査読有り
  • High-rate deposition of Ta-doped SnO2 films by reactive magnetron sputtering using a Sn-Ta metal-sintered target, Y. Muto, S. Nakatomi, N. Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 520, 3746, 3750,   2012年, 査読有り
  • High-rate deposition of high-quality Sn-doped In2O3 films by reactive magnetron sputtering using alloy targets, N. Oka, Y. Kawase, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 520, 4101, 4105,   2012年, 査読有り
  • Electrochromic properties of nickel oxide based thin films sputter deposited in the presence of water vapor, S.V. Green, M. Watanabe, N. Oka, G.A. Niklasson, C.G. Granqvist, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 520, 3839, 3842,   2012年, 査読有り
  • Thermophysical properties of transparent conductive Nb-doped TiO2 films, C. Tasaki, N. Oka, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, T. Kamiyama, S. Nakamura, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 51, 035802-1, 035802-5,   2012年, 査読有り
  • Thermophysical and electrical properties of Al-doped ZnO films, N. Oka, K. Kimura, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, Journal of Applied Physics, 111, 093701-1, 093701-5,   2012年, 査読有り
  • Photocatalytic Activity of WO3 Films Crystallized by Postannealing in Air, J. Takashima, N. Oka, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 51, 055501-1, 055501-5,   2012年, 査読有り
  • Thermal Conductivity of Amorphous Indium Zinc Oxide Thin Films, R. Endoh, T. Hirano, M. Takeda, M. Oishi, N. Oka, Y. Shigesato, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 1315 , mm11-05,   2011年, 査読有り
  • High Rate Reactive Sputter Deposition of TiO2 Films for Photocatalyst and Dye-Sensitized Solar Cells, Y. Sato, T. Hashimoto, A. Miyamura, S. Ohno, N. Oka, K. Suzuki, D. Glöß, P. Frach, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 50, 045802-1, 045802-10,   2011年, 査読有り
  • Oxidation Resistance of Ti-Si-N and Ti-Al-Si-N Films Deposited by Reactive Sputtering Using Alloy Targets, K. Takahashi, N. Oka, M. Yamaguchi, Y. Seino, K. Hattori, S. Nakamura, Y. Sato, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 50, 075802-1, 075802-5,   2011年, 査読有り
  • In-situ analysis of positive and negative energetic ions generated during Sn-doped In2O3 deposition by reactive sputtering, N. Tsukamoto, T. Tazawa, N. Oka, M. Saito, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 520, 4, 1182, 1185,   2011年, 査読有り
  • High-rate deposition of Sb-doped SnO2 films by reactive sputtering using the impedance control method, Y. Muto, N. Oka, N. Tsukamoto, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 520, 4, 1178, 1181,   2011年, 査読有り
  • NbドープTiO2薄膜の熱拡散率に対するNb添加効果, 田崎ちひろ, 岡伸人, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 神山敏久, 重里有三, 熱物性, 25, 3, 117, 120,   2011年, 査読有り
  • Thermal Boundary Resistance between N,N'-Bis(1-naphthyl)-N,N'-diphenylbenzidine and Aluminum Films, N. Oka, K. Kato, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 50, 11RB02-1, 11RB02-3,   2011年, 査読有り
  • Effect of Oxygen Impurities on Thermal Diffusivity of AlN Thin Films Deposited by Reactive RF Magnetron Sputtering, T. Yagi, N. Oka, T. Okabe, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 50, 11RB01-1, 11RB01-5,   2011年, 査読有り
  • Al-doped ZnO (AZO) films deposited by reactive sputtering with unipolar pulsing and plasma emission control systems, K. Hirohata, Y. Nishi, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Sato, I. Yamamoto, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 518, 2980, 2983,   2010年, 査読有り
  • DC Sputter deposition of amorphous indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO) films with H2O introduction, T. Aoi, N. Oka, Y. Sato, R. Hayashi, H. Kumomi, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 518, 3004, 3007,   2010年, 査読有り
  • Thermophysical properties of aluminum oxide and molybdenum layered films, N. Oka, R. Arisawa, A. Miyamura, Y. Sato, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, Thin Solid Films, 518, 3119, 3121,   2010年, 査読有り
  • In-situ analyses on reactive sputtering processes to deposit photocatalytic TiO2 films, N. Ito, S. Miyatake, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 49, 041105-1, 041105-5,   2010年, 査読有り
  • Carrier density dependence of optical band gap and work function for Sn-doped In2O3 films, Y. Sato, T. Ashida, N. Oka, Y. Shigesato, Appl. Phys. Express, 3, 061101-1, 061101-3,   2010年, 査読有り
  • Effects of Energetic Ion Bombardment on Structural and Electrical Properties of Al-Doped ZnO Films Deposited by RF-Superimposed DC Magnetron Sputtering, N. Ito, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 49, 071103-1, 071103-5,   2010年, 査読有り
  • In situ analyses on negative ions in the sputtering process to deposit Al-doped ZnO films, N. Tsukamoto, D. Watanabe, M. Saito, Y. Sato, N. Oka, Y. Shigesato, J. Vac. Sci. Technol. A, 28, 4, 846,   2010年, 査読有り
  • Electrical and Optical properties of Nb-doped TiO2 films deposited by dc magnetron sputtering using slightly reduced Nb-doped TiO2-x ceramic targets, Y. Sato, Y. Sanno, C. Tasaki, N. Oka, T. Kamiyama,Y. Shigesato, J. Vac. Sci. Technol. A, 28, 4, 851,   2010年, 査読有り
  • Study on MoO3-x films deposited by reactive sputtering for organic light‐emitting diodes, N. Oka, H. Watanabe, Y. Sato, N. Ito, H. Tsuji, Y. Shigesato, J. Vac. Sci. Technol. A, 28, 4, 886,   2010年, 査読有り
  • Spatial distribution of electrical properties for Al-doped ZnO films deposited by dc magnetron sputtering using various inert gases, Y. Sato, K. Ishihara, N. Oka, Y. Shigesato, J. Vac. Sci. Technol. A, 28, 4, 895,   2010年, 査読有り
  • High rate reactive magnetron sputter deposition of Al-doped ZnO with unipolar pulsing and impedance control system, Y. Nishi, K. Hirohata, N. Tsukamoto, Y. Sato, N. Oka, Y. Shigesato, J. Vac. Sci. Technol. A, 28, 4, 890,   2010年, 査読有り
  • High-Performance and High-CRI OLEDs for Lighting and Their Fabrication Processes, T. Komoda, T. Iwakuma, M. Yamamoto, N. Oka, Y. Shigesato, Advances in Science and Technology, 75, 65, 73,   2010年, 査読有り
  • Thermal Diffusivities of Tris(8-hydroxyquinoline)aluminum and N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenylbenzidine Thin Films with Sub-Hundred Nanometer Thicknesses, N. Oka, K. Kato, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, N. Ito, Y. Shigesato, Jpn. J. Appl. Phys., 49, 121602-1, 121602-4,   2010年, 査読有り
  • Nb-doped TiO2 films with low resistivity deposited by dc magnetron sputtering using a TiO2-x–Nb2O5-x target for transparent conductive electrodes, Y. Sato, Y. Sanno, N. Oka, T. Kamiyama, Y. Shigesato, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 1109E, B03-26,   2009年, 査読有り
  • Properties of IGZO films deposited by Dc Magnetron sputtering with H2O introduction, T. Aoi, N. Oka, Y. Sato, R. Hayashi, H. Kumomi, Y. Shigesato, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 1109E , B03-09,   2009年, 査読有り
  • High rate deposition of Al-doped ZnO (AZO) by reactive sputtering (1); Unipolar pulsing with plasma emission control, K. Hirohata, Y. Nishi, N. Oka, Y. Sato, I. Yamamoto, Y. Shigesato, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 1109E , B03-07,   2009年, 査読有り
  • Thermal transport properties of polycrystalline tin-doped indium oxide films, T. Ashida, A. Miyamura, N. Oka, Y. Sato, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, Journal of Applied Physics, 105, 7, 073709,   2009年, 査読有り
  • Sputter deposition of Al-doped ZnO films with various incident angles, Y. Sato, K. Yanagisawa, N. Oka, S. Nakamura, Y. Shigesato, J. Vac. Sci. Technol. A, 27, 5, 1166,   2009年, 査読有り
  • Transmission Electron Microscopy Observation on the Early Stages of Sn-Doped In2O3 Film Growth Deposited on Amorphous Carbon Films by DC Magnetron Sputtering, Y. Sato, S. Nakamura, N. Oka, Y. Shigesato, Appl. Phys. Express, 2, 095501-1, 095501-3,   2009年, 査読有り
  • Study on inverse spinel zinc stannate, Zn2SnO4, as transparent conductive films deposited by rf magnetron sputtering, Y. Sato, J. Kiyohara, A. Hasegawa, T. Hattori, M. Ishida, N. Hamada, N. Oka, Yuzo Shigesato, Thin Solid Films, 518, 4, 1304, 1308,   2009年, 査読有り
  • Development of Information Platform for Data Exchange between Heterogeneous Material Data Resources, T. Ashino, N. Oka, Proc. of Materials Science and Technology, 3, 1851, 1861,   2007年09月, 査読有り
  • 国際共同研究のためのネットワーク・コネクション, 岡伸人, 岩田修一, 情報知識学会誌, 17, 1, 32, 40,   2007年, 査読有り
  • 材料データベース共通プラットフォームの開発, 芦野俊宏, 門馬義雄, 馬場哲也, 山崎政義, 岡伸人, JCOSSAR2007論文集, 日本学術会議, 663, 669,   2007年, 査読有り
  • Material database syndication with RSS, T. Ashino, N. Oka, Data Science Journal, 6, S847, S852,   2007年, 査読有り
  • Fractal Characteristics of Colloid Deposition, J. Jia, S. Iwata, Y. Seida, Y. Kaneta, N. Oka, Z. Zhang, Data Science Journal, 6, S206, S219,   2007年, 査読有り

書籍等出版物

  • ナノ・マイクロスケール熱物性ハンドブック, 日本熱物性学会, 分担執筆, 6-2-6有機薄膜、6-4-2透明導電性薄膜, 養賢堂,   2014年07月
  • 透明導電膜の技術 改訂3版, 日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会, 分担執筆, 3・6 熱・機械的性質、8・6 熱的特性の測定法, オーム社,   2014年04月
  • カーボン材料実験技術(製造・合成編)-クラシックカーボンからナノカーボンまで- [炭素材料学会 (編集)], 岡 伸人,笘居高明,本間 格, 分担執筆, 2-11. 超臨界流体によるグラフェンの量産化技術, 株式会社国際文献社,   2013年11月

講演・口頭発表等

  • Thermophysical Properties of Transparent Conductive Oxide Thin Films, N. Oka, Y. Shigesato, The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 2017),   2017年08月, 招待有り
  • Highly conductive barium iron vanadate glass containing different metal oxides, T. Nishida, Y. Izutsu, M. Fujimura, K. Osouda, Y. Otsuka, S. Kubuki, N. Oka, The Solid State Chemistry Conference (SSC 2016),   2016年09月, 招待有り
  • Heat Transfer in Transparent Conductive Oxide Films with a Sub-Micron Thickness, N. Oka, Y. Shigesato, The Symposium on Phase Change Oriented Science 2015 (PCOS2015),   2015年11月27日, 招待有り
  • Rapid Mass Production of Graphene by Supercritical Fluid, N. Oka, T. Tomai, I. Honma, The 12th International Conference on Flow Dynamics (ICFD2015),   2015年10月27日, 招待有り
  • High-rate reactive sputter deposition for Transparent Conductive Oxide Films, 岡 伸人, The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia,   2014年12月12日, 招待有り
  • Review on thermophysical properties of various TCO thin films; ITO, IZO, AZO, ATO, TTO and NTO films, Nobuto Oka, 10th International Conference on Glass and Plastics (ICCG10),   2014年06月26日, 招待有り
  • 超臨界流体による高品質グラフェンの合成, 岡 伸人, ナノテクノロジーを基盤とする次世代エネルギー材料・デバイスの物質科学 「若手研究者による次世代エネルギー材料プロセッシングの新展開」,   2014年03月, 招待有り
  • Thermal transport properties of ITO, IZO, AZO, ATO, TTO and NTO films, N. Oka, J. Jia, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, 2013 JSAP-MRS Joint Symposia,   2013年09月17日, 招待有り
  • 透明導電膜および透明アモルファス酸化物半導体の構造・物性と作製法, 岡 伸人, 株式会社情報機構主催 技術セミナー,   2012年01月, 招待有り
  • 酸化チタン光触媒薄膜の内部応力と光分解活性, 重里有三, 岡伸人, 日本セラミックス協会 第24回秋季シンポジウム,   2011年09月, 招待有り
  • Heat diffusion mechanisms in transparent conductive oxide films, N. Oka, Y. Shigesato, E-MRS (European Material Research Society) 2011 fall meeting ,   2011年09月, 招待有り
  • Thermal diffusivity of ITO, IZO, AZO, TTO and NTO films analyzed by thermoreflectance method, Y. Shigesato, N. Oka, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, TCM 2010 - 3rd International Symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO),   2010年10月, 招待有り
  • High Rate Deposition of Various TCO Films by Reactive Sputtering , N. Oka, Y. Shigesato, Workshop on Transparent Conductive Oxide Thin Films for Electronics and Optics in Green Energy,   2010年08月, 招待有り
  • Thermophysical properties of transparent conductive oxide films with a sub-micron thickness, N. Oka, Workshop on Transparent Conductive Oxide Thin Films for Electronics and Optics in Green Energy,   2010年08月, 招待有り
  • スパッタリング法による透明導電膜の作製並びに有機ELに使われる透明導電膜及び有機薄膜の熱物性, 岡 伸人, (社)日本ファインセラミックス協会主催 JFCAイブニングセミナー,   2010年08月, 招待有り
  • Transparent Conductive Oxide Films by Reactive Sputtering Using Alloy Targets, Nobuto Oka, FEP-seminar (Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik (FEP), Germany),   2010年06月11日, 招待有り
  • High Rate Deposition of High Quality Transparent Conductive Oxide Films by Reactive Magnetron Sputtering Using Alloy Targets, N. Oka, Y. Shigesato, 8th International Conference on Glass and Plastics (ICCG8),   2010年06月, 招待有り
  • Thermophysical properties of various TCO films; ITO, IZO, AZO and TTO films, Y. Shigesato, N. Oka, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba , CIMTEC 2010, 5th Forum on New Materials ,   2010年06月, 招待有り
  • 透明導電膜の熱物性研究と薄膜データベースの開発, 岡 伸人, 平成21年度 固体熱物性クラブ全体会合およびデータベース・薄膜熱物性WG会合,   2010年01月, 招待有り
  • Electrochromic WO3 Films with controlled high-rate deposition by Hollow Cathode Gas Flow Sputtering, N. Oka, M. Watanabe, J. Jia, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, 232nd ECS MEETING,   2017年10月
  • Visible-light active thin-film WO3 photocatalyst crystallized by post-annealing in air , N. Oka, J. Takashima, A. Murata, J. Jia, Y. Shigesato, 232nd ECS MEETING,   2017年10月
  • Local Structure of Highly Conductive Vanadate Glass containing Tin Oxide Studied by RT-Mössbauer spectrum, Y. Fujita, T. Izumi, S. Kubuki, T. Nishida, N. Oka, 232nd ECS MEETING,   2017年10月
  • Electrocatalytic Properties of Vanadate Glass for Metal-Air rechargeable Battery, H. Miyamoto, M. Yuasa, T. Nishida, N. Oka, 232nd ECS MEETING,   2017年10月
  • 導電性バナジン酸塩ガラスの酸化スズ添加効果, 藤田裕樹, 伊豆見知佳, 久富木志郎, 西田哲明, 岡伸人, 第78回応用物理学会秋季学術講演会,   2017年09月
  • 金属空気二次電池用バナジン酸塩ガラス空気極触媒の開発, 宮本孟, 湯浅雅賀, 西田哲明, 岡伸人, 第78回応用物理学会秋季学術講演会,   2017年09月
  • V2O5を主成分とする電気を流す酸化物ガラス(バナジン酸塩ガラス)への酸化スズ添加の効果, 藤田裕樹, 伊豆見知佳, 久富木志郎, 西田哲明, 岡伸人, 近畿大学 院生サミット,   2017年09月
  • 金属空気電池のためのバナジン酸塩ガラスによる新奇二元機能空気極触媒, 宮本孟, 湯浅雅賀, 西田哲明, 岡伸人, 近畿大学 院生サミット,   2017年09月
  • Reactive sputter deposition of Nb-doped TiO2 films using Ni-Ti alloy target with impedance control systems, N. Oka, Y. Sanno, J. Jia, Y. Shigesato, The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM2017),   2017年08月
  • Substitutional Effect of Tin on Highly Conductive Barium Iron Vanadate Glass: Structure and Electrical Conductivity, Y. Fujita, T. Izumi, S. Kubuki, T. Nishida, N. Oka, The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM2017),   2017年08月
  • Vanadate Glass applied to Bifunctional Oxygen Electrode for Metal-Air rechargeable Battery, H. Miyamoto, M. Yuasa, T. Nishida, N. Oka, The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM2017),   2017年08月
  • 産・官・民 (NPO) 協働による 「こころの相談カフェ」 ―自殺予防に対する身近な相談窓口の必要性―, 田中康子, 田中美穂, 岡伸人, 第14回日本うつ病学会総会,   2017年07月
  • 酸化スズを導入した導電性バナジン酸塩ガラスの構造および電気特性, 藤田裕樹, 伊豆見知佳, 久富木志郎, 西田哲明, 岡伸人, 第54回化学関連支部合同九州大会,   2017年07月
  • バナジン酸塩ガラスによる金属-空気電池用の二元機能酸素電極の開発, 宮本孟, 湯浅雅賀, 西田哲明, 岡伸人, 第54回化学関連支部合同九州大会,   2017年07月
  • Mössbauer Spectra of Highly Conductive Vanadate Glass Containing Tin Oxide, Y. Fujita, T. Izumi, S. Kubuki, T. Nishida, N. Oka, 10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-10),   2017年07月
  • Vanadate Glass applied to Oxygen Electrode in Metal-Air Rechargeable Battery, H. Miyamoto, M. Yuasa, T. Nishida, N. Oka, 10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-10),   2017年07月
  • 酸化スズを含む高導電性バナジン酸塩ガラスのメスバウアースペクトルと電気伝導度, 藤田裕樹, 岡伸人, 久冨木志郎, 西田哲明, 第18回メスバウアー分光研究会シンポジウム,   2017年03月
  • 高導電性モリブデンバナジン酸塩ガラスのメスバウアースペクトルと電気伝導度, 西田哲明, 古本功, 久冨木志郎, 岡伸人, 第18回メスバウアー分光研究会シンポジウム,   2017年03月
  • Local Structure of Highly Conductive Barium Iron Vanadate Glass Containing Different Metal Oxides, Y. Fujita, Y. Izutsu, M. Fujimura, K. Osouda, S. Kubuki, N. Oka, T. Nishida, Joint International Symposium on "Regional Revitalization and Innovation for Social Contribution" and "e-ASIA Functional Materials and Biomass Utilization 2016" (JISRI. e-ASIA 2016),   2016年12月
  • Thin-Film WO3 Photocatalyst with Visible Light Activity; (2) Deposition by the Hollow Cathode Gas Flow Sputtering, N. Oka, A. Murata, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato, 2016 MRS Fall Meeting & Exhibit,   2016年11月
  • Thin-Film WO3 Photocatalyst with Visible Light Activity—(1) Deposition by the Conventional Reactive Sputtering, A. Murata, N. Oka, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato, 2016 MRS Fall Meeting & Exhibit,   2016年11月
  • 57Fe-Mössbauer study of sodium vanadate glass with high electrical conductivity, S. Kubuki, S. Shiba, K. Osouda, K. Akiyama, E. Kuzmann, Z. Homonnay, N. Oka, T. Nishida, XV Latin American Conference on the Applications of the Mössbauer Effect (LACAME 2016),   2016年11月
  • Analyses of new chalcogenization process using supercritical ethanol for low-cost fabrication of metal-chalcogenide materials, Y. Nakayasu, T. Tomai, N. Oka, I. Honma, 5th International Solvothermal And Hydrothermal Association Conference 2016,   2016年01月
  • イオン液体含有疑似固体電解質を用いた高レート型全固体リチウム電池の開発, 雁部祥行, 岡伸人, 本間格, 第56回電池討論会,   2015年11月
  • キノン系分子電極のレドックス反応に与えるイオン間相互作用の影響, 川村祥太郎, 谷木良輔, 岡伸人, 笘居高明, 本間格, 2015年電気化学秋季大会,   2015年09月
  • 超臨界流体セレン化・硫化法によるアモルファス酸化物薄膜からのCZTS薄膜の作製, 中安祐太, 笘居高明, 岡伸人, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 片山竜二, 角谷正友, 本間格, 第76回応用物理学会秋季学術講演会,   2015年09月
  • 超臨界エタノールと固体カルコゲン原料を用いたアモルファス酸化物薄膜からCZTS薄膜への変換反応, 中安祐太, 笘居高明, 岡伸人, 角谷正友, 本間格, 化学工学会 第47回秋季大会,   2015年09月
  • Fabrication of Cu2ZnSn(S,Se)4 thin films via simultaneous supercritical fluid chalcogenization, Y. Nakayasu, T. Tomai, N. Oka, M. Sumiya, I. Honma, International Conference on Frontiers in Materials Processing, Applications, Research & Technology (FiMPART'15),   2015年06月
  • キノン系分子電極のレドックス反応に及ぼすカチオン種の影響, 川村 祥太郎、谷木 良輔、岡 伸人、本間 格, 電気化学会第82回大会,   2015年03月
  • 超臨界流体反応を用いて作製した太陽電池用Cu2ZnSn(S,Se)4薄膜の構造特性評価, 中安祐太, 岡伸人, 笘居高明, 本間格, 化学工学会 第46回秋季大会,   2014年09月
  • Rapid synthesis of high-yielding graphene by supercritical fluid exfoliation, N. Oka, T. Tomai, I. Honma, 10th International Conference on Glass and Plastics(ICCG10),   2014年06月
  • 超臨界流体セレン化・硫化プロセスにより作製したCu2ZnSn(S,Se)4薄膜の構造特性評価, 中安祐太, 笘居高明, 岡伸人, 正直花奈子, 片山竜二, 小林大造, 中田時夫, 本間格, 第61回応用物理学会春季学術講演会,   2014年03月
  • 超臨界流体剥離法によるグラフェンの高速合成, 岡伸人, 笘居高明, 本間格, 第61回応用物理学会春季学術講演会,   2014年03月
  • 超臨界流体を用いたグラフェンの直接剥離的作製プロセス, 岡伸人, 笘居高明, 本間格, 化学工学会 第79年会,   2014年03月
  • High-yielding synthesis of graphene by supuercritical fluid, 岡伸人, 笘居高明, 本間格, 第46回フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム,   2014年03月
  • 超臨界流体による高品質グラフェンの合成, 岡伸人, 笘居高明, 本間格, 日本化学会 第94回春季年会,   2014年02月
  • Thermophysical Properties of Various TCO Films: ITO, IZO, AZO, and NTO films, J. Jia, N. Oka, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, 10th Asian Termophysical Properties Conference (ATPC2013),   2013年09月
  • Carrier transport in polycrystalline Al doped ZnO films, J. Jia, M. Kusayanagi, N. Oka, S. Nakatomi, Y. Shigesato, 2013-JSAP-MRS Joint Symposia,   2013年09月
  • Fabrication and characterization of Al doped ZnO films using reactive magnetron sputtering, J, Jia, M. Kusayanagi, N. Oka, Y. Shigesato, 12th International Symposium on Sputtering & Plasma processes (ISSP2013),   2013年07月
  • In-situ analyses on the reactive sputtering process to deposit amorphous In2O3-ZnO films using an In-Zn alloy target, N. Tsukamoto, S. Sensui, J. Jia, N. Oka, Y. Shigesato, 8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8),   2013年05月
  • Atomic forced microscopy and transmission electron microscopy observations on the early stages of Sn-doped In2O3 film growth deposited on a-SiO2 Surface by dc magnetron sputtering, Y. Sato, N. Oka, S. Nakamura, Y. Shigesato, 8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8),   2013年05月
  • Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc magnetron sputtering using Ni-Ti alloy target with impedence control systems, N. Oka, Y. Sanno, N. Tsukamoto, J. Jia, Y. Shigesato, 8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8),   2013年05月
  • Transparent Conductive Al or Ga doped ZnO films deposited by off-axis sputtering, J. Jia, A. Yoshimura, Y. Kagoya, N. Oka, and Y. Shigesato, 8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8),   2013年05月
  • 酸化物薄膜と金属薄膜の界面熱抵抗に関する研究, 川﨑静香, 賈軍軍, 岡伸人, 山下雄一郎, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 重里有三, 第33回日本熱物性シンポジウム,   2012年10月
  • In2O3系透明酸化物薄膜の熱拡散率とその温度依存性, 吉川透, 岡伸人, 賈軍軍, 八木貴志, 山下雄一郎, 竹歳尚之, 馬場哲也, 服部浩一郎, 清野豊, 重里有三, 第33回日本熱物性シンポジウム,   2012年10月
  • Thermophysical properties of amorphous indium-gallium-zinc-oxide thin films, T. Yoshikawa, N. Oka, J. Jia, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, K. Hattori, Y. Seino, Y. Shigesato , 4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012),   2012年10月
  • high quality Al or Ga doped ZnO films deposited by off-axis sputtering, A. Yoshimura, Y. Kagoya, N. Oka, J. Jia, Y. Shigesato , 4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012),   2012年10月
  • Amorphous Indium-Tin-Zinc-Oxide (a-ITZO) films deposited by DC sputtering with O2, H2O, N2 introduction, Y. Torigoshi, T. Matoba, N. Oka, J. Jia, E. Kawashima, M. Nishimura, M. Kasami, K. Yano, Y. Shigesato , 4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012),   2012年10月
  • Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc magnetron sputtering using Ni-Ti alloy target with impedance control systems, N. Oka, Y. Sanno, N. Tsukamoto, J. Junjun, Y. Shigesato, 4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012),   2012年10月
  • Al-doped ZnO films deposited by reactive sputtering using slightly reduced buffer layer, M. Kusayanagi, A. Uchida, N. Oka, J. Jia, Y. Shigesato, 4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012),   2012年10月
  • Optical properties of polycrystalline or amorphous In2O3-based transparent conductive films, R. Sato, N. Oka, J. jia, F. Utsuno, A. Kaijo, Y. Shigesato, 4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012),   2012年10月
  • アモルファスIZO薄膜の光学的バンドギャップの解析, 賈軍軍, 高崎愛子, 岡伸人, 重里有三, 第73回応用物理学会学術講演会,   2012年09月
  • 分光エリプソメトリによる多結晶ITO, アモルファスIZO薄膜の解析, 佐藤里奈, 岡伸人, 賈軍軍, 宇津野太, 海上暁, 重里有三, 第73回応用物理学会学術講演会,   2012年09月
  • O2, H2O, N2, またはN2O導入DCスパッタリング成膜アモルファスIn-Sn-Zn酸化物(a-ITZO)薄膜, 鳥越祥文, 的場竜樹, 岡伸人, 賈軍軍, 川嶋絵美, 西村麻美, 笠見雅司, 矢野公規, 重里有三, 第73回応用物理学会学術講演会,   2012年09月
  • Off-axis スパッタ法による低比抵抗AZO, GZOの成膜, 吉村彩, 籠谷幸広, 岡伸人, 賈軍軍, 重里有三, 第73回応用物理学会学術講演会,   2012年09月
  • 低比抵抗AlドープZnO(AZO)薄膜の成膜, 草柳嶺秀, 内田あずさ, 岡伸人, 賈軍軍, 重里有三, 第73回応用物理学会学術講演会,   2012年09月
  • Fermi level shift of polycrystalline ITO and amorphous IZO thin films, J. Jia, A. Takasaki, N. Oka, Y. Shigesato, 20th Annual International Conference on Composites or Nano Engineering(ICCE) ,   2012年07月
  • Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc magnetron sputtering using Ni-Ti alloy target, N. Oka, Y. Sanno, N. Tsukamoto, Y. Shigesato, 9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG-9),   2012年06月
  • High performance electrochromic WO3 films deposited by hollow cathode gas flow sputtering, M. Watanabe, N. Oka, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, 9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG-9),   2012年06月
  • How work function depends on carrier density and optical band gap various TCO films, A. Takasaki, J. Jia, N. Oka, Y. Shigesato, 9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG-9),   2012年06月
  • Visible-light active photocatalytic Pt/WO3 films deposited by hollow cathode gas flow sputtering, A. Murata, N. Oka, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, 9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG-9),   2012年06月
  • Electrochromic WO3 Films Deposited by Hollow Cathode Gas Flow Sputtering with Very High Deposition Rate, M. Watanabe, N. Oka, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, 9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG-9),   2012年06月
  • Sputter Deposition of WO3 Films as Visible Light-active Photocatalyst, N. Oka, M. Kikuchi, M. Imai, J. Jia, Y. Shigesato, 2012 MRS Spring Meeting,   2012年04月
  • Nb-doped TiO2 Films with Low Resistivity Deposited by Reactive dc Magnetron Sputtering with Impedance Control Systems, N. Oka, Y. Sanno, N. Tsukamoto, J. Jia, Y. Shigesato, 2012 MRS Spring Meeting ,   2012年04月
  • Carrier Transport Properties of Sb- and Ta-doped SnO2 (ATO and TTO) Films, J. Jia, N. Oka, Y. Muto, Y. Shigesato, 2012 MRS Spring Meeting,   2012年04月
  • Comparative Study on Electrical and Optical Properties between Polycrystalline ITO, AZO and Amorphous IZO Films, J. Jia, N. Oka, A. Takasaki, Y. Shigesato, 2012 MRS Spring Meeting,   2012年04月
  • Experimental Observation of Fermi Level Shift in Aluminum Doped ZnO Films, J. Jia, N. Oka, A. Takasaki, Y. Shigesato, 2012 MRS Spring Meeting,   2012年04月
  • ラマン分光法おうびカソードルミネッセンス法によるa-IGZO膜の構造評価, 井上敬子, 松田景子, 吉川正信, 岡伸人, 重里有三, 第59回応用物理学会関係連合講演会,   2012年03月
  • Investigation on Band-gap Shrinkage Phenomenon for ZnO:Al Films, 賈軍軍, 高崎愛子, 岡伸人, 重里有三, 第59回応用物理学会関係連合講演会,   2012年03月
  • 様々な透明導電膜の熱物性, 岡伸人, 賈軍軍, 八木貴志, 山下雄一郎, 竹歳尚之, 馬場哲也, 重里有三, 第59回応用物理学会関係連合講演会,   2012年03月
  • Study on Polycrystalline WO3 Films as Visible Light-active Photocatalyst, J. Takashima, A. Murata, N. Oka, Y. Shigesato, The 21st MRS-Japan Academic Symposium ,   2011年12月
  • Effects of Mesh on The Reactive Sputtering Process to Deposit TiNX and TiOX Films Using Ti Target, M. Ozawa, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato, The 21st MRS-Japan Academic Symposium ,   2011年12月
  • Dependence of Film Thickness on Photocatalytic TiO2 films Depositied by Rf Reactive Sputtering, K. Kanemoto, N. Oka, Y. Shigesato, The 21st MRS-Japan Academic Symposium,   2011年12月
  • Electrical Properties and Structure of Amorphous Zn-Sn-O Films, T. Matoba, N. Oka, Y. Shigesato, The 21st MRS-Japan Academic Symposium,   2011年12月
  • The Early Stages of ZnO, Al-doped ZnO, Ga-doped ZnO Films Deposited by dc magnetron sputtering, A. Uchida, N. Oka, Y. Shigesato, The 21st MRS-Japan Academic Symposium,   2011年12月
  • 3ω法によるアモルファルIGZO膜の熱伝導率測定, 遠藤亮, 平野孝行, 竹田正明, 大石学, 吉川透, 岡伸人, 重里有三, 第32回日本熱物性シンポジウム,   2011年11月
  • アモルファスIGZO薄膜の熱拡散率測定, 吉川透, 岡伸人, 山下雄一郎, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 服部浩一郎, 清野豊, 重里有三, 第32回日本熱物性シンポジウム,   2011年11月
  • TiO2およびNbドープTiO2薄膜の熱拡散率測定(2), 田崎ちひろ, 岡伸人, 山下雄一郎, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 神山敏久, 重里有三, 第32回日本熱物性シンポジウム,   2011年11月
  • Al2O3/W多層膜における界面熱抵抗, 川崎静香, 岡伸人, 山下雄一郎, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 重里有三, 第32回日本熱物性シンポジウム,   2011年11月
  • Study on Shifted Fermi Level of indium-free Transparent Conductive Oxide, J. Jia, A. Takasaki, N. Oka, Y. Shigesato, BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T,   2011年10月
  • Formation of nano-crystallites in amorphous Zn-Sn-O films as transparent oxide semiconductors, T. Matoba, N. Oka, S. Nakamura, A. Hasegawa, T. Hattori, M. Ishida, Y. Shigesato, BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T,   2011年10月
  • Thermal properties of nano-size interface between oxide and metallic films -Thermal boundary resistance between Al2O3 and W films, S. Kawasaki, N. Oka, Y. Yamashita, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T,   2011年10月
  • Effects of high energy particles bombarding on growing film surface during reactive sputtering deposition of TiNx films, M. Ozawa, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato, BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T,   2011年10月
  • Electrical Properties of New In-free Transparent Conductive Oxide Films; Nb-doped TiO2, C. Tasaki, N. Oka, T. Kamiyama, Y. Shigesato, E-MRS 2011 Fall Meeting,   2011年09月
  • Thermal Diffusivities of Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide (a-IGZO) Films, T. Yoshikawa, N. Oka, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, E-MRS 2011 Fall Meeting,   2011年09月
  • Sb-or Ta-doped SnO2 (ATO or TTO) Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering, S. Nakatomi, Nobuto Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, N. Oka, Y. Shigesato, E-MRS 2011 Fall Meeting,   2011年09月
  • Zn-Sn-O Films as Transparent Oxide Semiconductors Deposited by Sputtering, T. Matoba, N. Oka, S. Nakamura, A. Hasegawa, T. Hattori, M. Ishida, Y. Shigesato, E-MRS 2011 Fall Meeting,   2011年09月
  • Study on Work Function of Al-doped ZnO Films Surface, N. Oka, A. Takasaki, Y. Shigesato, E-MRS 2011 Fall Meeting,   2011年09月
  • Thermophysical Properties of Pure and Nb-doped TiO2 Films, C. Tasaki, N. Oka, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, E-MRS 2011 Fall Meeting,   2011年09月
  • Reactive Gas Flow-Sputter deposition of amorphous WO3 Films for electrochromic devices, N. Oka, M. Watanabe, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, E-MRS 2011 Fall Meeting,   2011年09月
  • CT個体NMR法による光触媒表面へのアセトアルデヒドの吸着状態解析, 村田亜紀代, 塚本直樹, 岡伸人, 福地将志, 福島達也, 梶弘典, 重里有三, 春季第58回応用物理学関連連合講演会,   2011年03月
  • ラマン分光法およびカソードルミネッセンス(CL)法によるa-IGZO膜評価, 井上敬子, 松田景子, 古川正信, 岡伸人, 重里有三, 春季第58回応用物理学関連連合講演会,   2011年03月
  • 透明導電膜の組成と電気特性の関係, 織田志保, 竹田正明, 遠藤亮, 岡伸人, 重里有三, 春季第58回応用物理学関連連合講演会,   2011年03月
  • Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc magnetron sputtering with impedance control systems, Y. Sanno, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Thermophysical properties of Alq3 and α-NPD films, K. Kato, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Thermophysical properties of amorphous IGZO films deposited by dc magnetron sputtering, T. Yoshikawa, N. Oka, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Characterization of a-IGZO Films by Raman Spectroscopy, K. Inoue, K. Matsuda, M. Yoshikawa, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Electrochromic Properties of Mg-doped NiOx Thin Films Sputtered with H2O Introduction, S.V. Green, M. Watanabe, N. Oka, G.G. Granqvist, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Thermal boundary resistance between aluminum oxide and tungsten films, S. Kawasaki, N. Oka, Y. Yamashita, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Thermal diffusivity measurement of TiO2 and Nb-doped TiO2 thin films, C. Tasaki, N. Oka, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, T. Kamiyama, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • In-situ analyses on the reactive sputtering process to deposit TiNx films, M. Ozawa, S. Sensui, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • High Rate Deposition of Electrochromic WO3 Films by Hollow Cathode Gas Flow Sputtering, M. Watanabe, N. Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • In-situ analyses on the reactive sputtering processes to deposit AZO films using an Al-Zn alloy target, N. Tsukamoto, S. Sensui, M. Ozawa, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Photocatalytic TiO2 film depositied by rf reactive aputtering, K. Kanemoto, A. Murata, N. Tsukamoto, N. Oka, M. Fukuchi, T. Fukushima, H. Kaji, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • ependence of Total gas pressure on Thermal and Mechanical properties and Internal Structures in Indium Zinc Oxide Thin Films, M. Takeda, R. Endo, Y. Tkai, M. Oishi, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Photocatalytic activity of WO3 films crystallized by post-annealing in air, J. Takashima, A. murata, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Study on the initial film growth of ZnO transparent conductive films, A. Uchida, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Carrier density dependence of work function for Al-doped ZnO(AZO) films, A. Takasaki, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • In-situ analyses on sputtered fragments in the reactive sputtering process to deposit amorphous IZO films using IZ target, S. Sensui, M. Ozawa, N.Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Visible-light Active Photocatalytic WO3 Films Deposited by Reactive Gas-Flow Sputtering, A. Murata, N. Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • Zn-Sn-O films as transparent amorphous oxide semiconductors, T. Matoba, N. Oka, S. Nakamura, a. Hasegawa, T. Hattori, M. Ishida, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • High Rate Deposition of Ta-doped SnO2(TTO) by Reactive Sputtering with Plasma Emission Intesity or Impedance Feedback systems, Y. Muto, S. Nakatomi, N. Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics(TOEO-7),   2011年03月
  • 反応性rfマグネトロンスパッタ法で作製した光触媒TiO2薄膜(2)~全圧依存性および薄膜依存性~, 金本宗也, 村田亜紀代, 岡伸人, 重里有三, 第17回シンポジウム光触媒反応の最近の展開(光機能材料研究会),   2010年12月
  • 反応性dcスパッタ法により作成したWO3薄膜の可視光応答性(VII)~後焼成による光触媒活性~, 髙島準也, 村田亜紀代, 岡伸人, 重里有三, 第17回シンポジウム光触媒反応の最近の展開(光機能材料研究会),   2010年12月
  • サーモリフレクタンス法を用いたAlq3およびα-NPD薄膜の熱物性に関する研究(2), 加藤一樹, 伊藤宜弘, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 重里有三, 第31回日本熱物性シンポジウム,   2010年11月
  • TiO2およびNbドープTiO2薄膜の熱拡散率測定, 田崎ちひろ, 岡伸人, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 神山敏久, 重里有三, 第31回日本熱物性シンポジウム,   2010年11月
  • In-situ analysis of positive and negative energetic ions generated during Sn-doped In2O3 deposition by reactive sputtering, N. Tsukamoto, T. Tazawa, N. Oka, M. Saito, Y. Shigesato, TCM 2010 3rd International Symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO),   2010年10月
  • High rate deposition of Sb-doped SnO2 films by reactive sputtering using impedance control method, Y. Muto, Y. Nishi, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, TCM 2010 3rd International Symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO),   2010年10月
  • Visible-light Active photocatalytic WO3 films loaded with Pt nanoparticles deposited by sputtering, A. Murata, N. Oka, Y. Shigesato, 5th International Conference on Surfaces, Coatings and Nanostructured Materials (NANOSMAT-5),   2010年10月
  • パルス光加熱サーモリフレクタンス法によるTiO2およびNbドープTiO2薄膜の熱物性測定, 田崎ちひろ, 岡伸人, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 重里有三, 秋季第71回応用物理学会学術講演会,   2010年09月
  • 反応性スパッタ法によるSnO2系透明導電膜の高速成膜, 武藤優, 中臣聡, 塚本直樹, 岡伸人, 岩淵芳典, 小坪秀史, 重里有三, 秋季第71回応用物理学会学術講演会,   2010年09月
  • XPS分析によるIZO幕の電子状態に関する考察, 安居麻美, 小川慎吾, 山元隆志, 竹田正明, 遠藤亮, 岡伸人, 重里有三, 秋季第71回応用物理学会学術講演会,   2010年09月
  • ITOおよびIZO薄膜のキャリア密度と仕事関数の相関性, 高崎愛子, 岡伸人, 宇都野太, 矢野公規, 重里有三, 秋季第71回応用物理学会学術講演会,   2010年09月
  • Tiターゲットを用いた反応性スパッタ成膜プロセスのin-situ解析(Ⅱ) TiNx成膜, 小澤正和, 塚本直樹, 岡伸人, 重里有三, 秋季第71回応用物理学会学術講演会,   2010年09月
  • Tiターゲットを用いた反応性スパッタ成膜プロセスのin-situ解析(Ⅰ) TiO2成膜, 岡伸人, 伊藤宜弘, 宮武正平, 重里有三, 秋季第71回応用物理学会学術講演会,   2010年09月
  • 可視光応答型WO3光触媒薄膜の後焼成による活性化, 高島準也, 村田亜紀代, 岡伸人, 重里有三, 秋季第71回応用物理学会学術講演会,   2010年09月
  • 反応性スパッタ法で作製したTiO2薄膜の光触媒活性(Ⅰ):膜厚依存性, 金本宗也, 村田亜紀代, 岡伸人, 重里有三, 秋季第71回応用物理学会学術講演会,   2010年09月
  • 反応性RFマグネトロンスパッタ法で作製した光触媒TiO2薄膜~膜厚依存性および照射光強度依存性~, 金本宗也, 村田亜紀代, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第16回シンポジウム光触媒反応の最近の展開(光機能材料研究会),   2009年12月
  • Pt島状膜担持による可視光応答型WO3光触媒薄膜の高性能化(Ⅱ), 村田亜紀代, 岡伸人, 佐藤泰史, 中村新一, 山口博, 重里有三, 第16回シンポジウム光触媒反応の最近の展開(光機能材料研究会),   2009年12月
  • 反応性dcスパッタ法により作製したWO3薄膜の可視光応答性(Ⅵ)~後焼成による光触媒活性~, 高島準也, 村田亜紀代, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第16回シンポジウム光触媒反応の最近の展開(光機能材料研究会),   2009年12月
  • 反応性スパッタ法によるMoO3-x薄膜の作製ならびにα-NPD薄膜との界面における結合状態解析, 渡邊寛己,岡 伸人,佐藤泰史,伊藤宜弘,辻 博也,重里有三, 有機EL討論会第9回例会,   2009年11月
  • Electrical and Optical Properties of Nb-doped TiO2 Films Deposited by dc Magnetron Sputtering using a Slightly Reduced Nb-doped TiO2-x Ceramic Targets, Y. Sato, Y. Sanno, C. Tasaki, N. Oka, T. Kamiyama, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • Study on Spatial Distribution of Electrical Properties for Al-doped ZnO Films Deposited by DC Magnetron Sputtering using Various Inert Gases, Y. Sato, K. Ishihara, N. Oka, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • In-situ Analyses on Negative Ions in the Sputtering Process to Deposit Al doped ZnO Films, N. Tsukamoto, D. Watanabe, N. Ito, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • Ultra High Rate Depositions of Various Transparent Conductive Oxide Films of AZO, ITO and ATO by Reactive Magnetron Sputtering, Y. Nishi, K. Hirohata, Y. Muto, Y. Kawase, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Sato, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • Reactive Magnetron Sputter Deposition of Al-doped ZnO Films with Unipolar Pulsing and Impedance Control System, Y. Nishi, K. Hirohata, N. Tsukamoto, Y. Sato, N. Oka, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • Enhancement of Visible-Light Activities of Photocatalytic WO3 Films Deposited by Sputtering, A. Murata, M. Kikuchi, N. Oka, Y. Sato, S. Nakamura, H. Yamaguchi, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • Photoelectron Emission Properties and Work Function of Sn-doped In2O3 Films, A. Takasaki, Y. Sato, N. Oka, F. Utsuno, K. Yano, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • High Rate Deposition of SnO2-based Transparent Conductive Films by Reactive Sputtering with Impedance Control Method, Y. Muto, Y. Nishi, K. Hirohata, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Sato, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • Study on MoO3-x Films Deposited by Reactive Sputtering for Organic Light-Emitting Diodes, N. Oka, H. Watanabe, Y. Sato, N. Ito, H. Tsuji, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • Thermophysical Properties of Alq3 and α-NPD Films Measured by Nanosecond Thermoreflectance Technique, N. Oka, K. Kato, N. Ito, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Sato, Y. Shigesato, AVS 56th International Symposium & Exhibition,   2009年11月
  • DCマグネトロンスパッタ法により作製したAlドープZnO 薄膜の熱拡散率測定, 木村健太郎, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第30 回日本熱物性シンポジウム,   2009年10月
  • サーモリフレクタンス法を用いたAlq3およびα-NPD 薄膜の熱物性に関する研究, 加藤一樹, 伊藤宜弘, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第30 回日本熱物性シンポジウム,   2009年10月
  • SbドープSnO2およびTaドープSnO2薄膜の熱拡散率測定, 山田沙織, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第30 回日本熱物性シンポジウム,   2009年10月
  • 3ω法によるIZO透明導電膜の熱伝導率測定, 遠藤亮, 平野孝行, 竹田正明, 大石学, 岡伸人, 重里有三, 第30 回日本熱物性シンポジウム,   2009年10月
  • 薄膜熱物性データベースの開発(1) (材料構造の階層性に対応したデータベース構造), 山下雄一郎, 馬場哲也, 竹歳尚之, 八木貴志, 岡伸人, 重里有三, 第30 回日本熱物性シンポジウム,   2009年10月
  • ユニポーラパルス反応性d c スパッタ法によるAlドープZnO (AZO) の高速成膜, 西康孝, 岡伸人, 廣畑謙人, 塚本直樹, 佐藤泰史, 重里有三, VACUUM2009 第31回真空展,   2009年09月
  • Pt島状膜担持による可視光応答型WO3光触媒薄膜の高性能化, 村田亜紀代, 渡邊寛己, 岡伸人, 佐藤泰史, 山口博, 中村新一, 重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • Alq3およびα-NPD薄膜の熱物性に関する研究, 加藤一樹, 伊藤宜弘, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • 反応性スパッタ法によるAlドープZnO(AZO)の高速成膜, 西康孝, 廣畑謙人, 岡伸人, 佐藤泰史, 山本功, 重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • Nb-doped TiO2-xターゲットを用いたDCスパッタ法によるNbドープTiO2透明導電膜の作製, 三野雄太, 佐藤泰史, 岡伸人, 神山敏久, 重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • アモルファス酸化インジウム亜鉛(a-IZO)薄膜のスパッタ成膜プロセス中の高エネルギー負イオンIn-Situ解析, 泉水栄, 渡邉大輔, 岡伸人, 佐藤泰史, 伊藤宜弘, 井出伸弘, 重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • ITO薄膜の光電子放出特性とキャリア密度の相関性, 高崎愛子, 佐藤泰史, 岡伸人, 宇都野太, 矢野公規, 重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • 反応性スパッタによるSbドープSnO2(ATO)の高速成膜, 武藤優, 西康孝, 廣畑謙人, 岡伸人, 佐藤泰史, 岩淵芳典, 小坪秀史, 吉川雅人, 重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • スパッタ法により作製したTaドープSnO2薄膜の電気特性と熱物性の解析, 山田沙織,木村健太郎,岡部隆志,八木貴志,竹歳尚之,馬場哲也,岡伸人,佐藤泰史,重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • AlドープZnO薄膜の斜めスパッタ成膜, 佐藤泰史, 柳澤 圭, 中村新一, 岡伸人, 重里有三, 春季第 56 回応用物理学関係連合講演会,   2009年04月
  • Oxidation barrier performance of SiO2 and Al2O3 films deposited by reactive magnetron sputtering, A. Miida, Y. Sato, N. Oka, F. Utsuno, K. Yano, K. Hasegawa, H. Yamaguchi, S. Nakamura, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Microstructural and electrochromic properties of amorphous WO3 films deposited by dc magnetron sputtering, M. Watanabe, A. Goto, Y. Sato, N. Oka, I. Yamamoto, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by dc magnetron sputtering using a slightly reduced Nb-doped TiO2 ceramic target, Y. Sanno, Y. Sato, N. Oka, T. Kamiyama, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Electrical and thermophysical properties of Ta doped SnO2 thin films deposited by rf magnetron sputtering, S. Yamada, K. Kimura, T. Okabe, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • High rate deposition of Al-doped ZnO (AZO) by reactive sputtering with unipolar pulsing and impedance control system, Y. Nishi, K. Hirohata, N. Tsukamoto, Y. Sato, N. Oka, I. Yamamoto, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Molybdenum oxide films deposited by reactive sputtering for organic light emitting diode devices, H. Watanabe, N. Oka, Y. Sato, N. Ito, H. Tsuji, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Thermal transport properties of Alq3 and α-NPD films, K. Kato, N. Ito, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Relationships between carrier density and photoelectron emission properties for ITO thin films, A. Takasaki, Y. Sato, N. Oka, F. Utsuno, K. Yano, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • High Rate Deposition of Sb-doped SnO2 (ATO) by Reactive Sputtering with Impedance Control Method, Y. Muto, Y. Nishi, K. Hirohata, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Sato, Y. Iwabuchi, H. Kostubo, M. Yoshikawa, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Thermal diffusivity measurement of Al-doped ZnO using a nanosecond thermoreflectance technique, K. Kimura, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Al-doped ZnO (AZO) films deposited by reactive sputtering with unipolar pulsing and plasma emission control systems, K. Hirohata, Y. Nishi, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Sato, I. Yamamoto, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Visible-Light active photocatalytic WO3 films loaded with Pt nanoparticles, A. Murata, H. Watanabe, N. Oka, Y. Sato, H. Yamaguchi, S. Nakamura, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • In-Situ Analyses on High Energy Negative Ions in the Sputtering Processes to deposit a-IZO films, S. Sensui, D. Watanabe, N. Oka, Y. Sato, N. Ito, N. Ide, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Characterization of amorphous indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO) films deposited by dc magnetron sputtering with H2O introduction, T. Aoi, N. Oka, Y. Sato, R. Hayashi, H. Kumomi, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Boundary thermal resistance between aluminum oxide and molybdenum films, N. Oka, R. Arisawa, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Sato, Y. Shigesato, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics,   2009年04月
  • Thermophysical and Electrical Properties of Polycrystalline ITO and Amorphous In2O3-ZnO Films, T. Ashida, N. Oka, Y. Sato, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • High Rate Deposition of Al-doped ZnO (AZO) by Reactive Sputtering (3); Hollow Cathode Gas Flow Sputtering, H. Takeda, Y. Iwabuchi, M. Yoshikawa, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • High Rate Deposition of Al-doped ZnO (AZO) by Reactive Sputtering (2); Unipolar Pulsing with Impedance Control, Y. Nishi, K. Hirohata, N. Oka, Y. Sato, I. Yamamoto, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • High Rate Deposition of Al-doped ZnO (AZO) by Reactive Sputtering (1); Unipolar Pulsing with Plasma Emission Control, K. Hirohata, Y. Nishi, N. Oka, Y. Sato, I. Yamamoto, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • Properties of IGZO Films Deposited by Dc Magnetron Sputtering with H2O Introduction, T. Aoi, D. Watanabe, N. Oka, Y. Sato, R. Hayashi, H. Kumomi, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • Characterization of MoO3-x Films Deposited by Reactive Sputtering, H. Watanabe, N. Oka, Y. Sato, N. Ito, H. Tsuji, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • In-situ Analyses on Magnetron Sputtering Processes to Deposit ITO and IZO Films, N. Ito, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • Influence of High Energy Negative Ion Bombardments on Structure and Electrical Properties of Al Doped ZnO (AZO) Films Deposited by dc Magnetron Sputtering, D. Watanabe, N. Ito, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • Nb Doped TiO2 Films with Low Resistivity Deposited by dc Magnetron Sputtering using a TiO2-x Target for Transparent Conductive Electrodes, Y. Sato, Y. Sanno, N. Oka, T. Kamiyama, Y. Shigesato, 2008 MRS Fall Meeting,   2008年12月
  • 反応性スパッタ法によるMoOx薄膜の構造と物性評価およびMoOx/α-NPD界面の解析, 渡邊寛己, 岡伸人, 佐藤泰史, 伊藤宜弘, 辻博也, 重里有三, 有機EL討論会第7回例会,   2008年11月
  • Sn doped In2O3(ITO)薄膜の光学的バンドギャップならびに光電子放出特性とキャリア密度の相関に関する研究, 高崎愛子, 佐藤泰史, 岡伸人, 宇都野太, 矢野公規, 重里有三, 有機EL討論会第7回例会,   2008年11月
  • ナノ秒サーモリフレクタンス法によるAlq3薄膜の熱物性解析, 加藤一樹, 伊藤宜弘, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 有機EL討論会第7回例会,   2008年11月
  • AlN薄膜の熱物性における酸素濃度依存性, 岡部隆志, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 日本電子材料技術協会 第45回秋期講演大会,   2008年11月
  • 脱In 透明導電膜:Al doped ZnO 薄膜の熱物性に関する研究, 木村健太郎, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 日本電子材料技術協会 第45回秋期講演大会,   2008年11月
  • Al, Si を添加したTiNx系超硬質薄膜における耐酸化性と硬さに関する研究, 高橋浩輔, 清野豊, 服部浩一郎, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 日本電子材料技術協会 第45回秋期講演大会,   2008年11月
  • AlN, AlOxNy薄膜の熱物性に関する研究, 岡部隆志, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第29回日本熱物性シンポジウム,   2008年10月
  • サーモリフレクタンス法によるAZO薄膜の熱拡散率測定, 木村健太郎, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第29回日本熱物性シンポジウム,   2008年10月
  • Material Ontology: an Infrastructure for exchanging material information and knowledge, T. Ashino, N. Oka, 21st International CODATA Conference ,   2008年10月
  • 反応性スパッタ法による高熱伝導AlN薄膜の作製, 岡部隆志, 八木貴志, 竹歳尚之, 馬場哲也, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第69回応用物理学会学術講演会,   2008年09月
  • 反応性スパッタ法による MoOx 薄膜の構造、物性解析, 渡邊寛己, 岡伸人, 佐藤泰史, 重里有三, 第69回応用物理学会学術講演会,   2008年09月
  • Analysis of Thermophysical Properties for Insulator Oxide Films Using a Thermoreflectance Method, R. Arisawa, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, N. Oka, Y. Sato, Y. Shigesato, 1st International Symposium on Thermal Design and Thermophysical Property for Electronics,   2008年06月
  • Information Platform for Data Exchange between Heterogeneous Material Data Resources, T. Ashino, N. Oka, Ensuring the Long-Term Preservation and Value Adding to Scientific and Technical Data 2007,   2007年10月
  • Development of Information Platform for Data Exchange between Heterogeneous Material Data Resources, T. Ashino, N. Oka, Materials Science and Technology 2007 ,   2007年09月
  • 材料データベース共通プラットフォームの開発, 芦野俊宏, 門馬義雄, 馬場哲也, 山崎政義, 岡伸人, 6th Japan Conference on Structural Safety and Reliability,   2007年06月
  • 材料データベースの連携プラットフォームの構築/ Development of Common Platform for Material Databases, 芦野俊宏, 岩田修一, 岡伸人, 馬場哲也, 山崎政義, 徐一斌, 門馬義雄, 第17回日本MRS学術シンポジウム,   2006年12月
  • Material Database Syndication with RSS, T. Ashino, N. Oka, 20th CODATA International Conference,   2006年10月
  • Informatics for ab-initio Computational data in Materials Science, N. Oka, K. Rajan, 20th CODATA International Conference,   2006年10月
  • Cyber connection for cross-border collaboration, N. Oka, S. Iwata, 20th CODATA International Conference,   2006年10月
  • CoSMIC-IMI Data Infrastructure, M. Heying, N. Oka, W. Hoshida, S. Iwata, S. Broderick, C. Suh, S. Outrey, C. S. Kong, M. Stukowski, K. Rajan, CoSMIC-IMI NSF (National Science Foundation) Site Visit,   2006年05月
  • Virtual on-line lecture about the access to LPF database, N. Oka, Y. Chen, S. Iwata, CoSMIC-IMI NSF (National Science Foundation) Site Visit ,   2006年05月
  • Crossing the International Digital Divide, N. Oka, K. Boysen, S. Iwata, K. Rajan, CoSMIC-IMI NSF (National Science Foundation) Site Visit ,   2006年05月
  • In-situ 意思決定のための次世代型簡易GIS, 近藤啓示, 岡伸人, 金田保則, 陳迎, 岩田修一, 第1回横幹連合コンファレンス,   2005年11月
  • 分野横断的問題解決のための知識抽出方法, 仲根信, 岡伸人, 金田保則, 陳迎, 岩田修一, 第1回横幹連合コンファレンス,   2005年11月
  • 異分野横観的アプローチによる先見的予防保全, 中井康裕, 岡伸人, 金田保則, 岩田修一, 陳迎, 第1回横幹連合コンファレンス,   2005年11月
  • Next Generation Lean GIS for In-situ Decision Making 新一代的在决策支援易地理信息系线简统, K. Kondoh, N. Oka, Y. Kaneta, Y. Chen, S. Iwata, UT forum 2005,   2005年09月
  • SCM理論への物流シミュレーションの組み込み, 矢部真史, 岡伸人, 岩田修一, エコデザイン2004ジャパンシンポジウム,   2004年12月
  • An Approach for Data - Driven Decision Making, M. Yabe, N. Oka, Y. Nakai, S. Iwata, 19th International CODATA Conference ,   2004年11月
  • Fusion of Data Capture, Self-Organization and Landscape Creation, N. Oka, M. Yabe, A. Sugawara, S. Iwata, 19th International CODATA Conference,   2004年11月
  • 分散可動型浄化システムのシミュレーション, 岡伸人, 金田保則, 三好哲生, 岩田修一, 日本シミュレーション学会大会,   2004年06月
  • 合意形成のための環境情報の論理表現に関する研究, 岡伸人, 柏村信輔, 杉浦裕美, 矢部真史, 三好哲生, 岩田修一, 第12回東京大学原子力研究総合センターシンポジウム,   2003年12月
  • 物質データベースを用いた物性値に関する規則性探索, 茂木厚史, 川口福太郎, 岡伸人, 金田保則, 陳 迎, 岩田修一, 日本機械学会材料力学部門講演会,   2003年09月
  • 環境調和型戦略に対応する組立性, 分解性設計, 山際康之, 岩田修一, 岡伸人, 杉浦裕美, 沼田潤, エコデザイン2002ジャパンシンポジウム,   2002年12月
  • 環境配慮型社会実現のための技術統合, 岡伸人, 田中俊一郎, 岩田修一, エコデザイン2002ジャパンシンポジウム,   2002年12月
  • 低環境負荷社会実現を目的とした消費者動向研究 -A Study on Consumer Trends to Realize Environmental Conscious Society-, 岡伸人, 横山美和, 岩田修一, 第12回設計工学・システム部門講演会,   2002年11月
  • Converging Technologies for Realizing Environmental Conscious Landscape, N. Oka, H. Sugiura, Y. Yamagiwa, S. Iwata, Landscape Frontier International Symposium 2002,   2002年10月
  • 情報デザインにおけるインタラクションの試み, 横山美和, 岡伸人, 馬場靖憲, 日本感性工学会大会,   2002年09月
  • 消費者動向研究(フリーマーケットでのケース・スタディ), 岡伸人, 横山美和, 岩田修一, 日本感性工学会大会,   2002年09月
  • 人工物工学研究の展開(第9報) -グリーンデザインのための材料情報の活用- Advances in Research into Artifacts (9th Report) -Utilization of Materials Information for Green Design-, 岡伸人, 与那嶺真一, 金田保則, 田中俊一郎, 岩田修一, 第10回設計工学・システム部門講演会,   2001年01月
  • 実用Mg合金の水溶液腐食(Ⅱ), 岡伸人, 岩田修一, 田中俊一郎, 日本金属学会2000年秋期大会,   2000年09月
  • Mg合金の応力負荷状態での腐食挙動, 田中俊一郎, 岩田修一, 岡伸人, 日本金属学会2000年春季大会,   2000年03月
  • 実用Mg合金の水溶液腐食, 岡伸人, 岩田修一, 田中俊一郎, 日本金属学会2000年春季大会,   2000年03月
  • Topological Relations of Landscape Experts in WWW, A. Moteki, Y. Terashima, H. Sugiura, N. Oka, S. Iwata, Landscape Frontier International Symposium 2002

MISC

  • 超臨界流体によるグラフェンの量産化技術 (連載講座 新しく炭素材料実験を始める人のために), 岡伸人, 笘居高明, 本間格, 炭素, 261, 19, 24,   2014年01月, 招待有り
  • 超臨界流体を用いた機能性ナノグラフェンの量産化プロセスの開発 (特集 革新的プロセス開発の新展開), 笘居 高明, 岡 伸人, 本間 格, 月刊ケミカルエンジニヤリング, 59, 2, 119, 124,   2014年02月, 招待有り
  • 超臨界流体によるグラフェンの超低コスト合成, 岡 伸人, 笘居 高明, 本間 格, 月刊Material Stage [2013年12月号],   2013年12月, 招待有り
  • [特集] 透明導電膜に関する最近の研究動向, 佐藤泰史, 岡伸人, 重里有三, NEW GLASS, 26, 1, 11, 15,   2011年03月, 招待有り
  • ニューガラス関連学会: The 8th International Conference on Coatings on Glass and Plastics の会議報告, 岡 伸人, New glass / ニューガラスフォーラム, 25, 3, 51, 53,   2010年09月, 招待有り
  • ニューガラス関連学会: 第2回ガラスとプラスチックへのコーティング技術国際シンポジウム(2nd Mini-ICCG)の会議報告, 岡 伸人, New glass / ニューガラスフォーラム, 24, 4, 75, 77,   2009年12月, 招待有り

受賞

  •   2017年08月, The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM2017), Award for encouragement of research, Vanadate Glass applied to Bifunctional Oxygen Electrode for Metal-Air rechargeable Battery
  •   2017年07月, The 10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-10), Best Poster Award (silver), Vanadate Glass applied to Oxygen Electrode in Metal-Air Rechargeable Battery
  •   2016年01月, 5th International Solvothermal And Hydrothermal Association Conference 2016, Best Poster Award, Analyses of new chalcogenization process using supercritical ethanol for low-cost fabrication of metal-chalcogenide materials
  •   2015年09月, 化学工学会, 第47回秋季大会 超臨界流体部会 学生賞, 超臨界エタノールと固体カルコゲン原料を用いたアモルファス酸化物薄膜から のCZTS薄膜への変換反応
  •   2015年04月, Materials Research Society (MRS), The 1st annual JMR Paper of the Year Award, Thermophysical properties of SnO2-based transparent conductive films: Effect of dopant species and structure compared with In2O3-, ZnO-, and TiO2-based films
  •   2015年03月, 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会, 平成26年度 学生奨励賞, 超臨界流体反応を用いて作製した太陽電池用Cu2ZnSn(S,Se)4薄膜の構造特性評価(化学工学会 第46回秋季大会:平成26年9月発表)
  •   2012年10月, 日本熱物性学会, 学会賞奨励賞, 様々な透明導電膜の熱物性解析および熱伝導機構の解明
  •   2012年10月, 第32回 日本熱物性シンポジウム, ベストプレゼンテーション賞 (連名・共同), 酸化物薄膜と金属薄膜の界面熱抵抗に関する研究
  •   2012年06月, ICCG9 - 9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics, Best Poster Award (3rd Prize) (連名・共同), High performance electrochromic WO3 films deposited by hollow cathode gas flow sputtering
  •   2011年11月, 第32回 日本熱物性シンポジウム, ベストプレゼンテーション賞 (連名・共同), TiO2およびNbドープTiO2薄膜の熱拡散率測定 (2)
  •   2011年11月, 第32回日本熱物性シンポジウム, ベストプレゼンテーション賞 (連名・共同), アモルファス IGZO 薄膜の熱拡散率測定
  •   2011年03月, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics ( TOEO7 ), Poster Award (Silver) (連名・共同), Thermophysical properties of amorphous IGZO films deposited by dc magnetron sputtering
  •   2011年03月, 7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO7), Poster Award (Silver) (連名・共同), High Rate Deposition of Ta-doped SnO2 (TTO) by Reactive Sputtering with Plasma Emission Intensity or Impedance Feedback systems
  •   2010年11月, 第31回日本熱物性シンポジウム, ベストプレゼンテーション賞 (連名・共同), TiO2およびNbドープTiO2薄膜の熱拡散率測定
  •   2009年04月, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics ( TOEO6 ), Poster Award (連名・共同), Visible-Light active photocatalytic WO3 films loaded with Pt nanoparticles
  •   2009年04月, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO6), Poster Award (連名・共同), Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by dc magnetron sputtering using a slightly reduced Nb-doped TiO2 ceramic target
  •   2008年12月, 2008 Materials Research Society (MRS) Fall Meeting, U.S.A., Poster Award (連名・共同), Properties of IGZO Films Deposited by Dc Magnetron Sputtering with H2O Introduction
  •   2008年11月, 日本電子材料技術協会 第45回秋季講演大会, 優秀賞 (連名・共同), AlN 薄膜の熱物性における酸素濃度依存性
  •   2008年11月, 第29回日本熱物性シンポジウム, ベストプレゼンテーション賞 (連名・共同), AlN,AlOxNy薄膜の熱物性に関する研究

競争的資金

  • 独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 (NEDO), 次世代高効率・高品質照明の基盤技術開発, 青山学院大学
  • 高度な機能を有する無機薄膜材料の研究 (透明導電膜・光触媒・エレクトロクロミックなど)
  • 酸化物薄膜・窒化物薄膜・有機物薄膜の熱物性研究
  • 独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 (NEDO), 有機発光機構を用いた高効率照明技術の開発, パナソニック電工株式会社
  • 独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 (NEDO), 材料データベースの連携プラットフォームの構築に関する調査研究, 芦野 俊宏